SiC外延片的化学机械清洗方法

继经典迈克尔逊干涉后的零差式激光干涉技术的出现

外差式激光干涉和零差式激光干涉的区别

有效抑制SiC外延片掉落物缺陷生成的方法

白光干涉仪的膜厚测量模式原理

应力消除外延生长装置及外延生长方法

白光干涉仪的光谱干涉模式原理

碳化硅外延晶片硅面贴膜后的清洗方法

碳化硅晶片表面金属残留的清洗方法

白光干涉仪中的VSI和PSI以及VXI模式的区别

迈克耳孙干涉仪白光等倾干涉的实现、条纹特征及形成机理

碳化硅衬底的特氟龙夹具相比其他吸附方案，对于测量碳化硅衬底 BOW/WARP 的影响

白光干涉为什么对于环境防振要求那么高

测量探头的 “温漂” 问题，都是怎么产生的，以及对于氮化镓衬底厚度测量的影响

为什么说白光干涉的扫描高度受限

特氟龙夹具的晶圆夹持方式，相比真空吸附方式，对测量晶圆 BOW 的影响

通过电光晶体的电光效应，实现白光干涉中的电光调制相移原理

测量探头的 “温漂” 问题，对于氮化镓衬底厚度测量的实际影响

通过声光介质的声光效应，实现白光干涉中的声光调制相移原理

不同的氮化镓衬底的吸附方案，对测量氮化镓衬底 BOW/WARP 的影响