磁控溅射仪 型号:Gemini 500 库号：D410900   磁控溅射仪 型号:Gemini 500 库号：D410900  

磁控溅射仪 型号:Gemini 500 库号：D410900    磁控溅射仪 型号:Gemini 500 库号：D410900  

磁控溅射仪原理

磁控溅射喷金，是通过磁场束缚电子运动，使电子在电场与磁场协同作用下高频撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被加速后轰击铂（Pt）、金（Au）等靶材表面，使靶材原子脱离并均匀沉积在样品表面形成纳米级导电薄膜的。相较于传统蒸镀喷金，该无需高温加热靶材，可避免样品热损伤，且薄膜附着力、均匀度；针对低真空场景化的磁路设计，能在2pa真空度下稳定产生等离子体，兼顾设备小型化与镀膜精度，是实验室样品处理的专属方案。

二、应用场景

科研检测领域

适配扫描电镜（SEM）样品预处理，为陶瓷、塑料、生物组织等绝缘样品喷镀纳米级铂膜，消除电子积累导致的成像模糊问题，可支持10万倍以上高倍镜下的成像。如口罩滤材检测、生物细胞观察、高分子材料形貌分析等场景，是科研数据获取的环节。

电子元器件领域

用于小型半导体芯片、柔性电子电极、传感器探头等部件的表面导电处理，沉积的铂膜兼具高导电性与化学稳定性，可降低接触电阻、提升部件抗腐蚀能力，适配微电子器件的小型化、高精度需求。

小型制造领域

针对小型不规则部件（如微型陶瓷传感器、金属触点）进行局部喷金处理，无需大型设备繁琐调试，可快速完成小批量样品的表面改性，大幅提升效率与产品一致性。

主机结构 1、尺寸423mm×370mm×390mm（W×D×H）

2、重量仅~50Kg（含真空泵）。

样品室与溅射系统 1、样品室尺寸180mm×150mm（D×H），采用高透光硼硅酸盐玻璃材质，可实时观察镀膜过程；

2、溅射面积Φ60mm，匹配小型样品尺寸，避免镀膜浪费。

3、上部电极（靶）采用Φ50mm×0.1mm规格，靶材与电极一体化设计，溅射均匀性偏差≤±3%。

靶材与可镀材料 1、标配1片高纯度金靶材（纯度≥99.99%），适配高要求检测场景；支持Au、Pt、Ag三种贵金属镀膜

真空与气路系统 1、皮拉尼真空计，测量范围覆盖1×10?3-1×103mbar，针对低真空场景化校准，真空度显示精度±0.01mbar，可稳定维持≤4×10?2mbar的工作真空度，兼顾镀膜质量与抽气效率；

2、配备专属微型真空气阀，实现自动调节真空，可直接连接φ3mm软管通惰性保护气体。

电源与控制参数 1、采用220V AC、50Hz接地三脚插头供电，具备过载、过压双重保护功能；

2、高电压-1600DCV、大电流100mA，可控制溅射速率，避免薄膜过厚或过薄；