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IKN研磨分散机设计独特，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。

现阶段磁流变液的研究还是主要关注在油基磁流变液上，而关于制备水基磁流变液的报道较少。近几年，随着磁流变抛光技术的发展，水基磁流变液的研究与开发越来越受到重视。与其它载液相比“水不但成本低无污染”还能够使微细磨料均匀地分散，同时水还具有良好的冷却和洗涤润滑作用，并且可促进抛光材料表面的水解，提高抛光效率，但是现有的水基磁流变材料磁性颗粒（一般为羰基铁粉）密度大，与载液相容性差而容易沉降，特别是长期静置后易结块且难再分散而失去磁流变性能。因此，开展水基磁流变液稳定性研究，开发一种与载液相容性好，不易沉降结块的水基磁流变液，对提高相关产品的技术含量和市场竞争力，具有十分重要的意义。

磁流体力学主要应用于三个方面：天体物理、受控热核反应和工业。

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磁流变液一般是由载液、微米或亚微米尺寸的铁磁性颗粒、稳定剂等组成的悬浮体系。磁流变液的特点是:在无外加磁场时，磁流变液呈牛顿流体状态，流动性与载液基本相同。当施加一外磁场后，体系粘度瞬间增大，从自由流动状态变为半固态或固体状态，体系的屈服强度和表观粘度增加2～3个数量级。同时体系的热力学、磁、光、声等性质也会发生大幅度的改变。其中体系的屈服强度和表观粘度能够受外加磁场的调控，随着外加磁场强度的变化而变化。磁流变液的这种粘度随外加磁场发生变化的效应被称为磁流变效应。磁流变液的另一个特点是：当撤除磁场后，颗粒又能迅速地恢复到自由状态，整个材料的粘度也相应降低，重新呈牛顿流体状态，这种完全可逆的变化能在毫秒级的时间内完成。磁流变液的这一可控特性使其可以在许多领域得到广泛应用，如机械、电子、航空航天、化工、能源、冶金、仪表、环保、医疗等。

CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

从设备角度来分析，影响分散效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，研磨分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散机设备选型表

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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