聚噻吩导电涂层工业化乳化机，导电聚噻吩涂层管线式高速乳化机，PEDOT高速乳化机，管线式高速乳化机，工业化14000转高速乳化机

聚噻吩具有良好的化学和电化学稳定性、掺杂水平高、有可逆的掺杂和去掺杂过程、结构多样性等优异性能，应用域相当广泛，如电材料、电致变色元件、超电容器、太阳能电池、光电转换器件材料、电磁屏蔽材料、人造肌肉组织等。影响聚噻吩性能的因素有单体浓度、反应温度、反应时间、氧化剂种类及浓度等。不同反应温度对聚噻吩的形貌有较大影响，40°C左右聚噻吩呈树枝状网络形貌，高于或低于40°C时聚噻吩则会聚合成层状。同时噻吩单体浓度对制得样品的颜色及聚噻吩合成的效率也有不同程度的影响。电化学氧化聚合法通过控制电化学氧化聚合条件(包括噻吩单体的电解液、支持电解质和溶剂、聚合电位、电流和反应温度等)，使聚合物在电上沉积制备导电聚噻吩薄膜的方法叫做电化学氧化聚合法。这种方法的优点是产物的机械性能较好、导电率高，并且反应条件比较容易控制、实验易操作。结果表明，聚噻吩薄膜形貌均匀，具有良好的热稳定性和抗腐蚀性能。

导电聚噻吩涂层管线式乳化机就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体、气体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程。而在通常情况下各个相是互不相溶的。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液(固/液)，乳液(液体/液体)从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频的循环往复，终得到稳定的高品质产品。

IKN管线式高剪切乳化机(分散机、均质机)与卧式乳化机比较:转速和剪切力:

XX乳化机，3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1IKN高剪切乳化机，9000/14000RPM通过皮带加速线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1这是乳化和均质的重要因素，相当于后者是者的4-5倍

这是乳化和均质的重要因素，相当于后者是者的4-5倍

设备设计构造:

3000转乳化机，卧室直联结构，运行时间长，容易造成轴的偏心，运转不正常，需要业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴IKN高剪切乳化机，立式分体结构，运行时间长，不易造成轴的偏心，容易更换，而且只要更换相应的皮带，一般的人员可以操作。

密封:

XX乳化机，填料密封或骨架密封，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁IKN高剪切乳化机，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转，特殊德国PDFE轴封，可以运行10000小时，可选择德国高品质机械密封，在一般的情况下，我们的机械密封可以承受16bar压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar，这就决定我们的入口压力可以达到12-13bar.产品效果:

3000转乳化机，粒径细度有限，10微米以下较困难，重复性差，产品粒径分布不均匀IKN高剪切乳化机，可实现0.1-1微米的颗粒加工，粒径分布均匀，纳米分散乳化

影响均质乳化结果的因素有以下几点

1均质头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2均质头的剪切速率(越大，效果越好)

3均质头的齿形结构(分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好)

4物料在分散墙体的停留时间，均质乳化时间(可以看作同等的电机，流量越小，效果越好)

5循环次数(越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好)线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

-剪切速率(s-1)=v速率(m/s)g定-转子间距(m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素:

-转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。IKN定-转子的间距范围为0.2~0.4mm

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