UV固化有机硅制备纳米/微米和15000转高速乳化机 ，UV固化有机硅制备纳米/微米高速乳化机 。有机硅制备纳米/微米微球高速乳化机 有机硅烷水解 加碱进行缩合

有机硅微米或纳米粒子的制备主要是通过将有机硅烷水解完全后加碱进行缩合，进 而生成纳米或微米正球型粒子，再经过滤、烘干完成制备。球形粒子的粒径及其分布只能 通过硅烷与水的比例以及碱的加入比例进行间接调整，波动很大，尤其批次生产量较大的时 候，不利于稳定控制。

1.将具有UV固化特征的可UV 固化有机硅与合适的光引发剂混合均匀作为油相，

2.将含有隔离剂的水混合均 匀作为水相，将 油相加入到水相中进行乳化剪切，乳液至期望的粒径和分布(目标粒径)后，

3.引入UV(紫外 光)对乳液进行照射固化

4.再经过滤、烘干或直接气流、喷雾干燥制得有机硅纳米/微米粒子；

影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 乳化头的剪切速率 （越大，效果越好）

3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，chao细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不neng zai好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

chaoX速分散均质乳化机的高的转速和剪切率对于获得chao细微悬浮液是重要的。根据一些行业te殊要求，依肯公司在ERS2000系列的基础上又开发出ERX2000chaoX速剪切乳化机机。其剪切速率可以chao过200.00 rpm，转子的速度可以da到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji gao,无需其他辅助分散设备,可以da到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.

chaoX速分散乳化机是、kuai速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度da到微米数量时，甚至纳米时，体系可被认为均质。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子gao速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下，shun间均匀精细的分散乳化，经过高频管线式高剪切分散均质乳化机的循环往复，#终得到稳定的XX产品。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和#终产品的要求。

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