PZ-WLI-150国产白光干涉仪三维形貌显微镜
价格：￥558000.00
地区：北京市
电 话：010-87681080
手 机：13910922172
-
图文详情
-
产品属性
-
相关推荐
白光干涉技术以可见白光为光源，光源发出的 白光通过干涉物镜后，在物镜出口处的半透射 光学平面反射一半光强，另一半光强透射后照 射在量测物表面，量测物表面的反射光又再次 进入干涉物镜与原光学平面的反射光产生干涉 由于白光为短同调光，干涉条纹只产生 在焦点位置，排除焦点外与杂光所导致的干扰 搭配「高速面型CCD 摄像机」记录干涉条纹产生的位置，再搭载「纳米级垂直扫描器」移动物镜记录纳米级的高度位置，就能重现量测对象的3D 表面形貌。
使用白光为干涉光源，在物镜焦点位置能产生干涉条紋，排除焦点外与杂光所导致的干扰，搭配高速面型CCD 摄像机直接提取整个画面，不需要逐点扫描，迅速又直接。
干涉物镜搭载「纳米级垂直扫描器」 ,使镜头以「纳米级」高精度的移动，配合前沿的干涉条纹解析法实现了0.1 nm的解析能力。
使用的白光光源为一般仪器用光源，使用时间长，更换方便且不需要调校，相对于使用电子束或雷射等需要调校的显微量测仪器，保养与维护容易。
量测对象只要有约1%的反射光束就能被量测，即使是玻璃或石英等高透明物体的表面这种难以计测的量测对象，也可以简单快速的进行测量。
规格
硬体与光学系统 | |||
移动台(mm） | 平台尺寸150x150,行程80x60 | ||
镜筒放大倍率 | 1.0 | ||
物镜放大倍率 | 10X | 20X | 50X |
观察与量测范围(mm) | 0.43×0.32 | 0.21X0.16 | 0.088X0.066 |
光学解析度(μm) | 1.15 | 0.86 | 0.62 |
收光鱼度(Degrees） | 17 | 23 | 33 |
工作距离(mm) | 7.4 | 4.7 | 3.4 |
感测器解析度 | 640x480像素 | ||
Z轴移动范围 | 33 mm · 手动细调 | ||
Z轴位置数位显示器 | 解析度0.5μm | ||
机台重量 | 50 kg | ||
载重 | 1kg | ||
倾斜調整平台 | 双轴/手动调整 | ||
高度测量 | |||
测量范围 | 100μm | ||
量测解析度 | 0.1 nm | ||
重复精度(σ)(1) | ≤0. 1%(量测高度：>10μm) ≤10nm(量测高度：1μm～10μm) ≤5nm(量测高度：<1μm) | ||
量测控制 | 自动 | ||
光源 | |||
光源类型 | 白光LED灯箱 | ||
平均使用寿命 | 30,000小时 | ||
资料处理与显示用电脑 | |||
中央处理运算单元 | 双核心以上CPU | ||
影像与资料显示 | 17"液晶显示 | ||
系统 | Windows7 (2) | ||
电源与环境要求 | |||
电源 | AC110V/220V,50Hz /60Hz | ||
环境震动 | VC-C等级以上 | ||
量测与分析软件 | |||
量测软件/分析软件 |
ProfileViewer软体： 具VSI/PSI量测模式、ISO粗糙度/阶高分析、多样的2D和3D观测视角图、 图像缩放、标准影像档案格式转换、报表输出等。 | ||
企业类型
制造商
新旧程度
全新
原产地
中国
行程:
80*60mm
物镜放大倍率:
10X 20X 50X
量测解析度:
0.1nm