镀层厚度分析仪的测量方法主要有：楔切法，光截法，电解法，厚度差测量法，称重法，X射线荧光法，β射线反向散射法，电容法、磁性测量法及涡流测量法等等。这些方法中前五种是有损检测，测量手段繁琐，速度慢，多适用于抽样检验。

X射线和β射线法是无接触无损测量，测量范围较小，X射线法可测极薄镀层、双镀层、合金镀层。β射线法适合镀层和底材原子序号大于3的镀层测量。电容法仅在薄导电体的绝缘覆层测厚时采用。

随着技术的日益进步，特别是近年来引入微机技术后，X射线镀层厚度分析仪向微型、智能、多功能、高、实用化的方向进了一步。测量的分辨率已达0.1微米，可达到1%，有了大幅度的提高。它适用范围广，量程宽、操作简便且价廉，是工业和科研使用广泛的测厚仪器。

X射线无损电镀层厚度检测仪X-ray 方法：

X射线光谱方法测定覆盖层厚度是基于一束强烈而狭窄的多色X射线与基体和覆盖层的相互作用。此相互作用产生离散波长和能量的二次辐射，这些二次辐射具有构成覆盖层和基体元素特征。覆盖层单位面积质量（若密度已知，则为覆盖层线性厚度）和二次辐射强度之间存在一定的关系。该关系首先由已知单位面积质量的覆盖层校正标准块校正确定。若覆盖层材料的密度已知，同时又给出实际的密度，则这样的标准块就能给出覆盖层线性厚度。

工业X射线镀层厚度分析仪以其快速、无损、现场测量等优点，已在冶金、建材、地质、环保、商检、考古、医学等领域得到迅速推广和应用。近几年来X射线荧光仪已在工业镀层及涂层厚度测量中应用越来越广泛。众所周知，产品和金属元件表面镀层或防腐层厚度是与产品质量与性能相关的重要指标。实验表明使用同位素X射线荧光分析方法，能够满足工业镀层和涂层厚度的分析要求，并且具有无损、在线、简便快速、可实现自动控制等特点。

THICK800A天瑞镀层膜厚仪技术参数：

满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求
小φ0.1mm的小孔准直器可以满足微小测试点的需求
高移动平台可定位测试点，重复定位小于0.005mm
采用高度定位激光，可自动定位测试高度
定位激光确定定位光斑，确保测试点与光斑对齐
鼠标可控制移动平台，鼠标点击的位置就是被测点
高分辨率探头使分析结果更加精准
良好的射线屏蔽作用
测试口高度敏感性传感器保护

元素分析范围从硫（S）到铀（U）中间的任意金属镀层 

可同时分析多达五层镀层
薄可测试0.005μm
分析含量一般为2ppm到99.9% 
镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）
任意多个可选择的分析和识别模型
相互独立的基体效应校正模型
多变量非线性回收程序
长期工作稳定性高
度适应范围为15℃至30℃
电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源