mask玻璃光刻掩膜板光罩加工
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  MEMS玻璃光刻掩膜板 在机器视觉、图像测量、摄影测量、三维重建等应用中,为校正镜头畸变;

确定物理尺寸和像素间的换算关系;以及确定空间物体表面某点的三维几何位置与其在图像中对应点之间的相互关系,需要建立相机成像的几何模型。通过相机拍摄带有固定间距图案阵列平板、经过标定算法的计算,可以得出相机的几何模型,从而得到高的测量和重建结果。


产品名称

产品型号

外形尺寸

图形尺寸

作用

MEMS掩膜板

GQ-D2520-1

250*220mm

230*200mm

校正补偿

 

产品特性:

 

 1. 确认光学系统的性能,复原相机模型的3D空间至2D空间的一一对应关系。

   标定的作用其一就是为了求取畸变系数(因为经过镜头等成像后,或多或少都有畸变),其二是为了得到空间坐标系和图像坐标系的对应关系。

 2. 定位0.001mm

 3. 相机参数标定是基于图像的三维模型重建中的关键步骤,提取标定点是准确完成相机参数标定的要前提,而棋盘格标定板在三维重建中的应用为广泛。

 

产品材质: 

 

 1.光学玻璃  2.陶瓷漫反射 

 

   桂庆光电提供陶瓷和玻璃两种基底材料的掩膜版。玻璃材质是为常用的一种,光学玻璃材质的掩膜板化学性能很稳定,高!此材料无杂质无气泡,是高标定板的选材!陶瓷基底的掩膜版具有热膨胀系数小、硬度高、性好、热传导率低、酸碱性好、不反光等特点,其良好的表面漫反射处理,解决了在应用过程中,前置光源情况下玻璃材质标定反光的难题。客户可以根据自己的需求选用不同材质的掩膜标定板。



 

产品描述:

 

  外形尺寸250*220mm,X轴方向是0-250mm刻度尺,Y轴是0-200mm刻度尺;

  板的周围分别Φ1mm圆点和1*1mm方格,圆点和方格中间是空心十字线;

  左上角中心是实心圆点Φ1mm阵列;

  右上角中心是Φ30mm的圆分割成30°、60°、90°扇形;

  左下角中心是Φ30mm的圆分割成445°扇形;

  右下角中心是1*1棋盘格阵列;

  围在上下左右4个大图形4个对角的是Φ10mm的实心圆和10*10mm方格.

  此板为多图形、多功能标定板,可以满足影像测量仪,机器视觉,工业相机,三维扫描仪等多方面校正补偿。


广泛应用于广泛应用于机器视觉、半导体行业(集成电路、分立器件、可控硅)、光电行业(LED光电子学器件)、定位测量光栅、码盘、分划板、光学器件。