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膜厚测量仪 Filemtrics F54
价格：电议
地区：上海市
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翌颖科技(上海)有限公司

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膜厚测量仪  Filemtrics F54



自动化薄膜厚度分布图案系统

依靠F54先进的光谱测量系统，可以很简单快速地获得直径450毫米的样品薄膜的厚度分布图。采用r-θ极坐标移动平台，可以非常快速的定位所需测试的点并测试厚度，测试非常快速，大约每秒能测试两点。系统中预设了许多极坐标形、方形和线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。只需掌握基本电脑技术便可在几分钟内建立自己需要的图形模式。

 

可测样品膜层

基本上所有光滑的。非金属的薄膜都可以测量。可测样品包括：



氧化硅

氮化硅

类金刚石DLC

光刻胶

聚合物

聚亚酰胺

多晶硅

非晶硅

硅





200毫米夹盘

200毫米夹盘

样品尺寸：

≤ 直径200毫米

≤ 直径300毫米

速度（含有真空夹盘）

5点-5秒

5点-8秒

25点-14秒

25点-21秒

56点-29秒

56点-43秒

基本要求

尺寸：

        14W X 19D X 22H（英寸）

  35.5W X 43.8D X 55H （厘米）

重量：

41lbs （19kg）




测量参数

F54-UV

F54-UVX

F54

F54-EXR

F54-NIR

5x 物镜厚度范围*：

-

-

20 nm-40 μm

20 nm-120 μm

40 nm-120 μm

10x物镜厚度范围*：

-

-

20 nm-35 μm

20 nm-70 μm

40 nm-70 μm

15x 物镜厚度范围*：

4 nm-30 μm

4 nm-100 μm

20 nm-40 μm

20 nm-100 μm

40 nm-100 μm

50x物镜厚度范围*：

-

-

20 nm-2 μm

20 nm-4 μm

40 nm-4 μm

100x物镜厚度范围*：

-

-

20 nm-1.5 μm

20 nm-3 μm

40 nm-3 μm

测量n和 k厚度要求1*：

50 nm

50 nm

100 nm

100 nm

500 nm

准确度*：大于0.4% 或

1 nm

1 nm

2 nm

2 nm

3 nm

2：

0.02 nm

0.02 nm

0.02 nm

0.02 nm

0.1 nm

稳定性3：

0.05 nm

0.05 nm

0.05 nm

0.05 nm

0.12 nm

基本要求






光谱仪波长范围：

200-1100 nm

200-1700 nm

400-850 nm

400-1700 nm

950-1700 nm

光源：

外置 氘灯 + 钨卤素灯

内置 钨卤素灯


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品牌/商标

FilemtricsF54

企业类型

贸易商

新旧程度

全新

产品型号

FilemtricsF54

原产地

美国