此箱式真空气氛炉应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结，也适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。

高温箱式真空气氛炉炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气等气体，能抽真空，真空度可达1pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

                高温箱式真空气氛炉规格及参数

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