德国PfeifferHLT 560氦质谱检漏仪用于PECVD镀膜设备检漏应用实例(福建的太阳能晶体硅电池制造公司)

一、镀膜设备检漏原因

  福建的太阳能晶体硅电池制造公司,生产太阳能单晶和多晶电池片.该公司在生产过程中应用了PECVD沉积Si3N3减反层, 4-5天设备需要保养(清洁MASK,更换支架等等),由于是清洁设备内部,所以存在内部腔体密封性失效的可能.如果镀膜设备密封性不好,镀出来的产品膜厚会不均匀,产品四周膜参数会不合格.

    如果镀膜设备保养完成后,能做检漏,就可以避免很多不合格产品的产生,达到节约生产成本的目的.德国Pfeiffer的HLT 560氦质谱检漏仪具有操作简单,反应灵敏的特点,得到了客户的青睐.

二、镀膜设备检漏操作

示意图如下:

1),将氦质谱检漏仪HLT 560连接到泵组前的检漏口上.

2),启动检漏仪,检漏仪开始抽取密闭腔体中的气体,同时启动镀膜设备的泵组.

3),在镀膜机内部的真空下降到一定程度的时候,如0.5 mbar以下的时候,拿氦气喷在怀疑有漏的地方,或者检查标准保养时动到的部位.这时需要有人观察检漏仪的漏率指示值的变化.当漏率上升或漏率值变化剧烈的时候,及时指出漏点所在位置,并做记号.

4),所有可疑点都检测完成后,关闭检漏仪,停下镀膜机的泵组并将镀膜机打开,将检测出的漏点进行处理(如更换密封圈,清洁等等).处理完成后,再按照前叙步骤检查一遍,直到所有漏点都被清除,检漏过程完成.