E型电子束蒸发源
　　一、概述
　　本蒸发源系坩埚由电机直接驱动、电子束偏转角为270º、用于蒸镀各种金属和非金属材料的磁偏转式E型电子束蒸发装置。
　　用于真空镀膜过程中电子束蒸发镀膜。实际中广泛应用于：增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热／冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器等。电子束蒸发能够很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均匀性，增加镀膜的一致性和重复性，薄膜易于控制。
　　
　　主要特点：
　　结构先进
　　充分借鉴国内外先进的电子枪的优点，具有独特的水冷和密封结构，经多次长时间的实验证明，电子枪能够在很大的电子束流下长期稳定工作。
　　可在高温环境下长期可靠工作
　　在通常镀膜工艺中，工件需加热至很高温度，整个真空室内温度很高，而本电子枪良好的冷却系统能保证电子枪在 400℃的高温环境下长期正常工作。
　　完全适用于反应气体
　　在反应沉积镀膜过程中，通常需要用氧气或氮气等与蒸发的膜料进行反应沉积所需薄膜，在此过程中增加反应气体的活性和能量，对形成高质量薄膜至关重要。本电子枪可以在完全通入反应气体下正常工作。
　　安装简便、维护简单运行成本低
　　本电子枪的安装非常简单，耗材只是灯丝及磁件，日常维护工作主要是更换灯丝及磁件。
　　操作简单
　　电子枪的操作简单，通过调节电子枪的电子束束流以及扫描幅度即可使电子枪稳定工作（手动及全自动）。控制面板上能直接观察到灯丝电压、电流。
　　
　　二、主要技术参数
　　1、电子束偏转角：270º
　　2、阳极电压：6KV、8KV二档
　　3、阴极加热电源：AC 3V＋3V，60A可调
　　4、束流：间冷坩埚0～500mA、直冷坩埚0～1A
　　5、坩埚容量（标准型）4孔间冷：4×17mL；4孔直冷：4×22mL；环形直冷：85mL
　　6、磁场电源
　　X偏转电流：±2A可调
　　扫描频率：10～250HZ
　　Y偏转电流：±2A可调
　　扫描频率：10～250HZ
　　7、启动真空度：6.7×10-3Pa
　　8、坩埚定位（四孔坩埚）：电控自动或手动点控
　　9、坩埚冷却水
　　进水温度：≤25℃
　　进水压力：≥0.2MPa
　　水流量：≥8L／min
　　10、电子枪体接地电阻：≤4Ω