本设备为科研工作者在新材料的开发和研制中提供了在高真空、高温和强磁场复合条件下处理实验样品的环境。其性在于将真空、加热和磁场这三个独立模块系统地整合到一个统一的整体。并在加热升/降温过程和磁场加载卸载过程中采用PID程序控制，实现加载实验过程的自动化和程序化。该设备操作简单，维护方便，温度和磁场的控制高，稳定性好。
　　
　　2010年底我公司赢得沙特阿拉伯阿卜杜拉国王科技大学实验设备的采购订单
　　真空系统采用旋片式机械泵与涡轮分子泵串联组合结构，系统在工作温度下可实现较高的真空度。系统特别配备了微调进气阀，方便用户在实验过程中向真空腔内充氩气、氮气等气体，提高降温速度。
　　
　　加热系统采用40段可编程PID控制器。恒温控制为±1℃。
　　磁场产生系统同样采用40段可编程PID控制器。恒磁控制为±0.1mT.
　　冷却水系统采用独立监控结构，利用温度传感器分别监测加热炉冷却水和真空泵冷却水水温，通过微调流量阀，分别调节加热炉磁场及分子泵的冷却水流量，控制出口水温。
　　本公司可根据客户需要设计制造更高温度、更强磁场、更高真空度和更大的实验样品空间的“高真空强磁场热处理炉”。　

其他说明

产品名称	高真空强磁场热处理炉
产品型号	VM-500
输入电压	三相 380V
总功耗	~ 3kw
冷却水入水温度	≤ 25 ℃
冷却水出水温度	≤ 40℃
冷却水流量	≤ 3 升 / 分钟
样品大小	5* Ø 2 0 mm
设备尺寸	720mm( 长 )* 760mm( 宽 )* 760mm( 高 )
设备净重	246kg
真空系统参数
前级真空泵	旋片式机械泵
真空泵	涡轮式分子泵
真空计	两级复合真空计
冷态真空度	~ 1E-5Pa
800 ℃ 真空度	~ 1E-4Pa
加热系统参数
温度范围	室温~ 800 ℃
控制方式	1* 40/2* 20/4* 10 可编程 PID 控制
测温	铂铑 / 镍铬镍硅 热电偶
控温	± 1 ℃
升温速度	≤ 10℃/ 分钟
磁场系统参数
磁感应强度范围	0 ~ 50mT
磁场类型	磁线圈
磁场方向	水平
磁场控制方式	1* 40/2* 20/4* 10 可编程 PID 控制
磁场控制	± 0.1mT
磁场加载速度	≤ 50mT/ 分钟