一、用途：保密。
　　二、技术指标：
　　1.蒸镀室极限真空度：5×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；压升率：停泵关机12小时后真空度小于等于5Pa；
　　2.真空腔从大气到2×10-3Pa时间小于3 0分钟；
　　3.泄漏小于1×10-7PaL/S；
　　4.热蒸发装置为两个蒸发舟，含加热和控温装置，控温要求：±1℃程序可控；
　　5.公转架转速（即换位转速）在0～30转/分钟，自转架转速在0-60转/分钟之间程序可调；
　　6.在腔体内的工件架必须保证样品的法线方向与铅垂直方向的夹角在15°～45°之间连续可调，在调节杆上作出角度调节标记，以方便调节；
　　7.工件架上的样品基片可以通过红外灯进行加热，加热温度从室温到200℃程序可调可控；
　　8.基片架中心和蒸发源之间的距离的调节范围为200～300 mm；在调节杆上标注出蒸发源口离样品中心的垂直距离。
　　三、主要组成：
　　该蒸镀设备主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、热蒸发源系统、E型电子枪及控制电源系统、膜厚测试系统、挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及计算机控制系统、台架系统、辅助系统等组成。