我公司借鉴国际上新的光化学原理技术。开发出了具有独立知识产权的符合中国国情的光清洗机（申请号为：.9），其清洗洁净度达到“原子级”。基本原理与传统的清洗技术如化学法、物理法（例超声波）不同，与新近发展的等离子体清洗、激光清洗等也有较大不同。主要是应用光化学原理与技术，技术关键在于特种大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理为利用光子能量将有机物的高分子链、大分子链，断裂成小分子、原子、自由基等；及将空气中的氧分子变成臭氧O3。O3再经光子的作用产生激态氧原子O*，O*将断裂后的有机物质强氧化变成CO, CO2,H2O等挥发，随排气并排出，不留任何痕迹，属干式法，无接触型；常温、常气压下无损伤，不使用任何化学药品，环保无二次污染；对物体表面的难清洗的油脂及有机污染物有特殊清洗效果。