AJA公司的磁控溅射靶枪是为了满足超高真空薄膜研究的需要而设计的。它的多功能性设计在世界上是处于地位的，如模块化磁场排布、原位倾斜装置、在靶上集成的气环、圆锥形的靶罩以及其他超高真空的设计等。超高真空磁控溅射靶是目前市场上的研究用靶。
　　
　　其主要功能及特点：
　　可以做直流和射频溅射。
　　可以溅射磁性及非磁性材料。
　　模块化磁场排布。
　　冷却水和磁铁不直接接触。
　　超高真空设计。
　　不需要拆卸可直接烤到200摄氏度。
　　工作压力范围宽（0.5-1Torr）。
　　有较高的溅射速率和沉积均匀性。
　　
　　可选部件：
　　＋／-45°倾斜装置。
　　原位倾斜装置。
　　集成在靶上的气环。
　　圆锥形靶罩，用于非轴向溅射。
　　超高真空Z轴手动移动和气动挡板。
　　复合法兰。
　　其它特殊要求。