ETD小型离子溅射仪
价格:电议
地区:北京市
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  ETD系列离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,简单、可靠、经济的镀膜设备。不但满足扫描电镜制备薄膜需要,而且也可作为实验设备,溅射较厚的导电膜层用于其他实验。
  ETD系列离子溅射仪,可选择普通溅射电极,也可选择磁控溅射电极,有1600V和3000V电离电压可选。
  基本指标
  靶(上部电极):Au/Pt:直径:50mm,厚度:0.12mm
  真空样品室:直径:160mm,高:120mm
  样品台及工作距离:高配旋转样品台,简配固定样品台,高度手动调节
  溅射面积:Ф50mm,放置
  真空指示表:真空度:≤4X10-2 mbar
  离子电流表:电流:50mA/100mA
   定时器:长时间:900S
  真空度手动控制:微型真空气阀,可连接φ3mm软管
  可通入气体:多种
  机械泵:2L/S   (120L/min)