EMS 575T双头高分辨率离子溅射镀膜仪
　　
　　EMS 575T是一款涡轮泵双头高分辨率镀膜仪（喷金仪）。EMS-575T样本放置在旋转样品台上（the rotary stage），盖好盖子（the chamber lid），按下启动按钮，涡轮分子泵开始加速，5秒钟后，机械泵开始启动，同时十秒气体排空程序启动，两个泵同时运行确保一个高真空。当涡轮泵加速，它的速度由柱状图来标示，到达速度的一半时，真空计扭至自动状态。当腔内气体压降为10-4 mbar，排气开始，腔内气压维持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之间，排气的后阶段，靶材按照预订镀膜时间开始喷镀。镀膜需要两种不同金属的，不需要关泵，继续溅射另一种金属。喷镀完成后，两个泵停止，排气阀排气。
　　仪器质保期2年。模块化的单元结构使得仪器维护方便，摘掉问题模块，换上无问题的模块，仪器即可很好的运行，一点不会耽误实验进程。
　　
　　性能特征：
　　全自动一键式操作，微处理器数字控制方式，可预设参数
　　LCD屏实时显示状态参数
　　质保期：标准保修期为一年
　　高分辨率精细镀层（不超过0.5nm的铬颗粒大小）
　　薄金属镀层，典型5nm厚
　　涡轮分子泵
　　Peltier冷却双溅射头，无需冷却水
　　双溅射头：真空条件下，可顺序溅射两种不同的材料，对于需要依次喷镀两种金属的样品特别适用
　　磁控溅射靶源设计
　　旋转机械泵为备用泵，机械泵为外部安装式
　　仪器参数：
　　
　　仪器尺寸 450mm（W）x 350mm（D）x 175mm（H）
　　工作腔室硼硅酸盐玻璃：165mm（Dia.）x 125mm（H）
　　加不锈钢底座 110mm（Dia.）x 115mm（H）
　　重量 42Kg
　　靶材 54mm（Dia.）x 0.2mm（Thick）（标准铬靶材和金靶材）
　　样品台 60mm（Dia.），以60 r.p.m 旋转，一定的倾斜度
　　真空泵工作范围（Penning）ATM to 1x10-7 mbar，镀膜腔体极限真空度10-7 mbar
　　操作真空 1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar
　　溅射电流 0-175mA
　　溅射时间 0-4 minutes
　　功率 1000V at 100 ma，100 watts
　　沉积速率 30nm/min at 100mA
　　涡轮分子泵 60 litres/Second（Ultimate vacuum 1x10-8 mbar）
　　电源配置 230 volts 50Hz（6 AMP Max incl pump）
　　Services Argon＆shy；Nominal 4 psi
　　真空泵（推荐配件）附带真空管和油气过滤器