分子涡轮高真空系统，CPU程序全自动控制，触膜屏用户界面，可镀多种膜材，也可镀相对较厚的膜。具有快速溅射易氧化和不氧化金属（贵金属）靶材的功能，可选各种溅射靶材，包括常用于场发射电镜的铱和铬。
　　
　　可选配一系列可选附件，如：金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。
　　标准配置的样品台，无倾角，高度不可调。如果需要倾斜样平台，需要另外选择。
　　
　　主要技术指标：
　　尺寸和重量：仪器机箱：585mm宽x 470mm长 x 410mm高（总高：650mm）
　　仪器总重量：33.4Kg
　　工作腔室：硼硅酸盐玻璃，152mm（内）x 127mm高
　　触摸屏全图像用户界面
　　样品台：标配件（无倾角，高度不可调），转速8-20rpm
　　真空系统：
　　涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵（标准配置里面）
　　旋转机械泵：双级旋转机械泵（需要另购）
　　真空度：5x10-3-----5x10-1 mbar
　　溅射时间：长60分钟
　　溅射靶材：57mm＆Oslash；x 0.3mm Chromium（标准配置：铬靶材一个）