The　Plasmax　800C　是设计利用低频率（100KHz）产生的离子的撞击清洁作用的原理来应用在发光二极体
　　的产品上，增加打缐的结合力与表面改质。
　　低频率的电源协助产生较高密度的离子震盪来更有效的清洁，使得制程效率更加的提高。
　　本系统包含一个大容量的腔体，可以放置六个弹匣的电极结构以提供客户大量稳定生产使用。
　　◆操作模式：弹匣批次式置入
　　◆高产出且没有静电破坏。
　　利用中频产生高密度电浆，并让清洗更有效率更均匀。
　　◆制程应用：
　　-利用物理和化学的作用，针对金属的结合面作改善与清洗增加打缐结合强度
　　-增加表面能，让填充与点胶的流动性在胶与基板间的结合性提高
　　-利用不同气体种类可以表面改质
　　◆腔体尺寸：
　　-宽430　X　深435　X　高610　mm.
　　◆中空阴极电极
　　-6弹匣/每批次
　　◆高可靠的电源输出：
　　-半自动匹配调整输入能量
　　-小巧简洁式的电源供应器
　　-输出能量为1000W
　　◆安全系统：
　　-保护电路与萤幕监控
　　-低频输出端
　　-腔门户所开关
　　-真空测漏监控
　　-电磁辐射干扰保护