准分子紫外光清洗机
　　□自主知识产权，国际前沿光子处理技术；
　　□国际上玻璃清洗制程的主流技术；
　　□高效快速清洗；
　　□低温大面积加工过程；
　　□瞬间开启和熄灭，节省工艺时间；
　　□安装角度灵活方便，操作使用简单；
　　□电光转化效率高，无废旧回收问题，节能环保；
　　□工件可在大气中进行清洗，便于生产线作业；
　　□可彻底清除物体表面的碳和有机污染物；
　　□干式清洗，无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题；
　　□保证产品的高可靠性和高成品率；
　　□产品表面清洗处理的均匀度一致。
　　应用领域：
　　主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法为合适。
　　主要材料：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
　　可以去除的污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
　　技术参数：
　　项目          EWC70翻盖型（Desktop　Style）
　　适用工件尺寸          4-12　inches
　　光源配置            1x172　nm    
　　输出波长        172　nm
　　单灯光强          40　mW/cm2
　　光照均匀度          ？3%（工件旋转时）
　　光照时间设定          定时器，0-60　min
　　额定功率            70　W
　　功率可变范围          0-100%
　　灯启动时间          <1　s        
　　真空反应腔          SUS304不锈钢
　　观察视窗            KF50视镜（可选）
　　工件台            可调高度，静止/旋转（可选）
　　工件装载方式    打开翻盖，露出工件台，装卸工件
　　进出气口        标配2个，KF15法兰接口
　　真空系统配置          机械泵（可选）
　　真空计（10-1Pa）及接口      KF15法兰接口
　　臭氧中和器和排气系统      可选
　　供电电源            230V/50Hz
　　“ON”指示器          有
　　外观尺寸（长x宽x高）      500x500x400　mm
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