一、真空箱式炉应用领域
　　该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于特殊材料的热处理。
　　
　　二、真空箱式炉主要特点
　　炉门口安装有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进入，并有多处洗炉膛进气口，出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体，能抽真空，真空度可达5pa，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。　

其他说明

设备型号	ZWF1600 -I	ZWF1600 -II	ZWF1600 -III	ZWF1600 -IV	ZWF1600 - V
温度	1600℃	1600℃	1600℃	1600℃	1600℃
控制	±1℃	±1℃	±1℃	±1℃	±1℃
炉膛尺寸 (mm) (W *H*L )	150*150*200	200*200*300	250*250*400	300*300*400	400*400*500
发热元件	Φ6*210*210*30 U型硅钼棒	Φ6*320*270*30 U型硅钼棒		Φ6*340*270*30 U型硅钼棒	Φ6*370*270*30 U型硅钼棒
真空度	66.6pa	66.6pa	66.6pa	66.6pa	66.6pa
冷态压升率	≦10~20pa/h	≦10~20pa/h	≦10~20pa/h	≦10~20pa/h	≦10~20pa/h
功率	4Kw	6kw	10kw	12kw	16kw
温控方式	可控硅模块自控