制作工艺：

薄膜

精密铂电阻-薄膜铂电阻，用真空沉积的薄膜技术把铂溅射在陶瓷基片上，膜厚在2μm以内，用玻璃烧结料把Ni(或Pd)引线固定，经激光调阻制成薄膜元件。 高：0.15度可以修正到0.1度 测温范围：-50~200；-50~400；-50~600范围宽广
100 /1000Ω阻值可供选择 工作稳定；尺寸小
薄膜铂电阻选型表

型号	外形尺寸 W×L×Hmm	标称阻值 R0	工作电流 mA	引线尺寸 W×L×Hmm	工作温度 ℃	误差	外形图 mm
VEC-1632-Ni	1.6×3.2×1.0	100Ω	1	0.25×0.15×12	-40~450	1/3DIN A B 2B
VEC-1632-Pd				0.3×0.2×10	-50~500
VEC-2005-Ni	2.0×5.0×1.0		2	0.25×0.15×12	-40~450
VEC-2005-Pd				0.3×0.2×10	-50~500
VEC-2005-Ni		500Ω 1000Ω	0.5	0.25×0.15×12	-40~450
VEC-2005-Pd			0.5	0.3×0.2×10	-50~500

备注： 1/3DIN    ±0.1℃          A            ±0.15℃          B             ±0.3℃         2B            ±0.6℃