特点

• 型号仪器，具有常见的所有功能
• 射线激发量的灵活性，激发量可根据测量面积大小和光谱组成而改变
• 通过硅漂移探测器，在 > 10万cps（每秒计数率） 的超高信号量下也可以正常工作，而不会出现能量分辨率的降低
• 极低的检测下限和出色的测量重复度
• 带有快速、可编程 XY 工作台的自动测量设备
• 大容量便于操作的测量舱

典型应用领域

• 测量极薄的镀层，例如应用于电子和半导体行业中
• 痕量分析，例如根据 RoHS、玩具标准、包装标准对有害物质进行检测
• 进行高的黄金和贵金属分析
• 光伏产业
• 测量 NiP 镀层的厚度和成分