EX3自动椭圆偏振测厚仪是基于消光法（或称“零椭偏”）测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。与EM22仪器相比，该仪器采用半导体激光器作为光源，稳定性好，体积更小。EX3仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。EX3仪器还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的折射率n和消光系数k。

特点:

• 经典消光法椭偏测量原理

  仪器采用消光法椭偏测量原理，易于操作者理解和掌握椭偏测量基本原理和过程。

• 方便安全的样品水平放置方式

采用水平放置样品的方式，方便样品的取放。

• 紧凑的一体化结构

集成一体化设计，简洁的仪器外形通过USB接口与计算机相连，方便仪器使用。

• 高稳定性光源

采用半导体激光器作为探测光的光源，稳定性高，噪声低。

• 丰富实用的样品测量功能

可测量纳米薄膜的膜厚和折射率、块状材料的复折射率等。

• 便捷的自动化操作

仪器软件可自动完成样品测量，并可进行方便的测量数据分析、仪器校准等操作。

• 安全的用户使用权限管理

软件中设置了用户使用权限（包括：管理员、操作者等模式），便于仪器管理和使用。

• 可扩展的仪器功能

利用本仪器，可通过适当扩展，完成多项偏振测量实验，如马吕斯定律实验、旋光测量实、旋光等。

应用领域:

EX3适合于教学中单层纳米薄膜的薄膜厚度测量，也可用于测量块状材料的折射率n和消光系数k。EX3可测量的样品涉及微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等领域。

技术指标:

项目	技术指标
仪器型号	EX3
测量方式	自动测量
样品放置方式	水平放置
光源	半导体激光器，波长635nm
膜厚测量重复性*	0.5nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
膜厚范围	透明薄膜：1-4000nm吸收薄膜则与材料性质相关
折射率范围	1.3 – 10
探测光束直径	Φ2-3mm
入射角度	30°-90°，0.05°
偏振器方位角读数范围	0-360°
偏振器步进角	0.014°
样品方位调整	Z轴高度调节：16mm二维俯仰调节：±4°
允许样品尺寸	圆形样品直径Φ120mm，矩形样品可达120mm x 160mm
配套软件	* 用户权限设置* 多种测量模式选择* 多个测量项目选择* 方便的数据分析、计算、输入输出
外形尺寸	（入射角度70°时）450*375*260mm
仪器重量（净重）	15Kg

 注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次的标准差。

性能保证:

• ISO9001国际质量体系下的仪器质量保证
• 的仪器使用培训
• 的椭偏测量原理课程