波长

632.8nm

Y、D

0.001°、0.01°  (90° 时50次测量标准差)

长期稳定性

TanY = ±0.005；CosD =  ±0.005(90°超过1小时的测量)

膜厚

2? for 100 nm SiO2 on Si

折射率

0.001or 100 nm SiO2 on Si

厚度范围

1nm-5μm（透明薄膜）；1nm–2.5μm（弱吸光性薄膜）

膜层数

3层复合膜

光学结构

PSCA模式

高稳定度补偿器C；CosD=1 附近有较高

起偏器P、补偿器C、检偏器A的位置自动跟踪、以及自校准功能

光斑

<<1 mm；≈20 μm

入射角

55° - 90°；步进值5°

自检

90°自动校准；包括原始测试波形的自检

维护

自动的内部维护程序，检查部件是否在正常工作

数据库

各种电介质、薄膜、晶体及非晶半导体、金属等的NK文件（数万种）