仪器简介：

X射线晶体分析仪采用PLC控制技术，该技术控制，干扰性好，
可实现高压部分无故障率。PLC控制高 X射线晶体分析仪采用PLC控
制技术，该技术控制，干扰性好，可实现本系统地工作。

技术参数：

一、X射线发生器：
管电压：10～60KV由PLC自动控制（1KV/step）；
管电流：2～80mA由PLC自动控制（1mA/step）；
管电压、管电流稳定度≤0.3‰；
额定输出功率：5KW；
PLC自动定时，时间任意选择；
有无压、无流、过压、过流、过功率、无水、X射线管温保护。
二、X射线护罩：
采用高密度、高透光性的铅玻璃作为X射线护装置,外射线量≤0.3μSv/h。
三、X射线管：额定功率：2kW
焦点尺寸（mm） 点焦点（1×1）; 线焦点(0.4×14);
靶材：可选（W、Cu、Fe、Co、Cr、Mo等）
四、高压电缆：
高压电缆是X射线管与高压发生器的连接电缆线。高压电缆与高压发生器插
座、管头配合良好、，灯丝接点良好、，无接触不良情况。
介电电压：100KV
长度：3米
五、可配相机：
劳厄相机（国产）
平板相机（）

主要特点：

TDF-3000型晶体分析仪采用立式管套，四个窗口可以同时使用，它可作为研究物质内部的结构，例如：单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力、研究板材、棒材的结构、研究未知物质的结构和单晶位错等。