GD-Profiler2可以快速、同时分析七十余种元素，包括氮、氧、氢和氯元素，是一种用于薄膜(包括涂层、镀层、渗层等)成份和工艺分析的理想工具。
GD-Profiler2采用脉冲工作模式的RF光源，可以有效地分析热传导性能差和热敏感的样品。应用领域包括腐蚀与防腐、PVD、CVD、过程控制，也可用于日常的金属和合金的产品质量控制与检测。

详细指标参数可访问https://www.horiba.com/cn/scientific/products

*RF射频发生器- 标准配置，符合E级标准，稳定性高，溅射束斑极为平坦，等离子体稳定时间极短，表面信息无任何失真。
*脉冲工作模式既可分析常见的涂、镀层和薄膜，也可以很好的分析热传导性能差和热易碎的涂、镀层和薄膜。
*多道(同时)型光学系统可全谱覆盖，光谱范围：110nm至800nm，包含远紫外，可分析C, H, O, N, Cl
*HORIBA Jobin Yvon 的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器有光通量，因而有的光效率和灵敏度
*HDD® 检测器可进行快速而高灵敏的检测，动态范围达到10个量级
*宽大的样品室方便各类样品的加载
*功能强大的QUANTUMT XP软件可以多种格式灵活方便的输出检测
*激光指点器(CenterLite laser pointer，申请中)可用于加载样品
*HORIBA Jobin Yvon独有的单色仪(选配件)可极大的提高仪器的灵活性，可同时测定N+1个元素

HORIBA Jobin Yvon 所生产的辉光放电发射光谱仪(RF-GD-OES)采用射频(RF)光源，可以进行导体和非导体材料的基体、表面、逐层分析，是一种快速的、操作简单的分析手段。
GDS是一种理想的表面、逐层分析工具，分析深度高达几百微米，深度分辨率可至原子层。
HORIBA Jobin Yvon所生产的辉光放电光谱仪(GD)全部采用技术的HDD(High Dynamic range Detection)检测器，可以实时、自动优化工作参数，在灵敏度和动态范围不受任何损失的情况下，一个分析通道就能完全满足同一元素在不同层面内微量和主量的测定。