TDM-200膜层监控仪适用于高频溅射、直流溅射、电阻蒸发、离子束、电子束等镀膜应用场合，在线测量膜层的厚度，可用于批量生产，也可用于薄膜材料研究。本仪器具有高速高测量系统，可提高镀膜的质量和可重复性，具有稳定、易于操作、配置灵活的特点。还提供了监测和控制功能，您可通过液晶显示屏连续获取沉积速率、厚度和晶片频率；并可通过计算机记录数据并实时描绘厚度曲线和速率曲线。     ▲ TDM-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面,方便您的编程和操作。     ▲  频率计算和显示分辨率达到0.1Hz，计算速率达到每秒四次，为您制备薄膜提供了有力支持。     ▲提供了RS-232接口，您可对镀膜过程进行遥控。并可通过计算机实时描绘厚度曲线和速率曲线。     ▲对于多层膜中的关键膜层，您可使用特定的挡板探头监测，大大提升产品成膜质量和。     ▲可配合多源镀膜系统，并为您提供了256种材料参数供使用。     ▲ 连续镀膜还设计了自动监控方式，简化您的操作。     ▲ 19英寸标准机箱，备有适配电缆，易于安装至现有的装置中。   规格

测量 频率计算    ±0.1Hz(在6.0MHz频率时) 频率显示    0.1Hz 测量速率          4Hz   　 显示 厚度显示        000000?～999999? 速率显示        000.0～999.9?/s 时间显示        00:00:00～23:59:59（时:分:秒）层数              01～99层图形显示        240x64LCD，低功耗LED背光　 存储能力 层                99层材料库          256种材料参数　 膜层参数 层               01～99 厚度            000000～999999 ? 材料            分子式（长10个字符）密度            00.00～99.99g/cm3 工具因子      00.00～99.99 Z因子          00.00～99.99 探头            A、B、C、D 探头挡板     “无”或 “有”

系统参数 挡板延迟      00:00～99:99(分:秒) 镀膜方式     “单层”、“多层” 控制方式     “手动”、“自动” 启动延迟      00:00～99:99(分:秒) 　 输出控制能力 源挡板         4个探头挡板      4个　 监控能力 源               4个探头数量      4个 通信 通讯接口            标配RS-232串行口 Windows软件    随机附带　 其它 供电要求       220V（±5%），50Hz，                    功率<30W 工作温度       0℃～50℃ 仪器尺寸       112 x 480x360（高x宽x                     深），可用于19’标准工业                    机架仪器重量       5.0Kg