实验用甩胶机
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匀胶机 Spin Coater    品牌:MIDAS    MIDAS为匀胶机(又称为旋涂仪、甩胶机、Spin Coater等)的国际品牌,目前用户超过1800台,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,是行业。   技术规格:
项目 Item 技术规格 Specification
时间 Time 1~999秒,可调节
基底尺寸 Substrate Size ~ 4英寸/~6英寸/~8英寸
卡盘旋转速度 Chuck Rotation Speed 300~8000 rpm,直流伺服马达/交流伺服马达
匀胶状态 Spin State 50步,20个方案控制(数字程序编辑)
碗腔尺寸 Bowl Size 8英寸,铝(经阳极氧化工艺)/12英寸,SUS
增/减速率 Accele/deceleration Rates 可调节
真空卡盘 Vacuum Chuck 铝(阳极氧化),乙缩醛(Acetal)
电源 Electrical Power 220V, 5A
无油真空压力泵 Oilless Vacuum Pump - 650 mmHg
尺寸(mm) Dimension 230 X 340 X 260 / 390 X 570 X 280
  仪器特点: 1)  桌上型匀胶机,涂膜厚度范围:100nm~100um; 2)  可用于光刻胶(PR),聚酰亚胺(Polyimide),金属有机物(Metallo-organics),搀杂剂(Dopant),硅薄膜(Silica Film),以及大多数的有机溶液、水溶液; 3)  紧凑型设计,用户编辑、控制、存储、取出涂胶程序,易于操作; 4)  加速及减速速率基于设定的时间/转速(Ramp Time/RPM value)自动计算;  5)  用户通过匀胶机前面板显示屏和按钮进行编辑、控制、存储、取出涂胶程序,并进行实验操作。   仪器介绍:     匀胶机有许多名称:甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪等,主要应用于溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作。其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。     匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。