PlasCalc-2000&ProCess-2000 等离子体监测和过程控制
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描述

PlasCalc-2000配有2048像元CCD高分辨率的光谱仪,等离子体光辐射测量范围为200-1100nm,PlasCalc-2000进程控制系统可靠,其精密的数据采集和控制算法格外具有优势,对PC的模拟和数字输入输出功能也简化了进程控制过程。PlasCalc-2000及其软件系统在数据采集和信号处理上非常方便,波长、测量模式编辑器可以迅速产生有效的测量模式及各种测量模式的组合,适合于控制系统。

 

200-1100nm光谱范围
1.0nm全高半宽分辨率
14位I/O D/A转换
8个TTL数字I/O端口
4个0-10V模拟输出端口
USB1.1接口

ProCess-2000参数

多达6通道的宽带光谱数据采集
每个通道都可以独立配置光谱范围
小于0.3nm的光学分辨率
16个TTL数字I/O端口
8个1-10V模拟输出端口
USB2.0接口

应用

通用过程监控
表面清洁过程
保护膜
等离子体刻蚀
等离子室设备健康水平监控
非常规过程处理
多晶硅平整化处理
新的加工过程优化和监控

PlasCalc-2000参数