品牌	日本大塚OTSUKA旗下Photal	型号	FE series
用途	膜厚测量

配合多元需求，客製化的非接觸式光學膜厚量測系列。190～1600nm的廣域量測，0.1nm～250μm的多層膜解析。從研究開發的桌上型裝置，到製造生產取向的大型自動化搬送系統等皆有完整的解決方案。

橢圓偏光儀 FE-5000

反射式膜厚量測儀 FE-3000

膜厚光譜分析儀系統 MCPD series

桌上型橢圓偏光儀 FE-5000S

膜厚量測儀 FE-300

平面顯示器膜厚量測裝置 FE seires

半導體膜厚量測裝置 FE series

生產線製程膜厚量測系統 MCPD series

      橢圓偏光儀 FE-5000/FE-5000S

      反射式膜厚量測儀 FE-3000

      膜厚量測儀 FE-300

      膜厚光譜分析儀系統 MCPD series

橢圓偏光儀 FE-5000奈米等級的橢圓偏光膜厚儀，適用於解析多層膜膜厚、膜質管理、光學常數（n:屈折率；k:衰減係數）。

膜厚量測範圍	0.1nm ~ 1000nm
波長量測範圍	250nm ~ 1100nm

桌上型橢圓偏光儀 FE-5000S自動變換角度的量測功能，可達到全角度的高解析。以合理的價格提供膜厚、光學常數解析的新光譜式橢圓偏光儀。

膜厚量測範圍	0.1nm ~ 1000nm
波長量測範圍	300nm ~ 800nm

反射式膜厚量測儀 FE-3000薄膜到厚膜的廣域量測範圍，多層膜解析、微小口徑量測等，解決各式各樣的膜厚分析。

膜厚量測範圍	1nm ~ 250μm
波長量測範圍	190nm ~ 1600nm

膜厚量測儀 FE-300完全繼承FE-3000的齊全功能，提供固定平台與自動對位平台兩種規格。低價格並不影響高量測的表現。

膜厚量測範圍	10nm ~ 40μm
波長量測範圍	300nm ~ 800nm

膜厚光譜分析儀系統 MCPD series光纖可依照需求建構出多樣的量測系統，製程生產線的即時監控或特殊環境的量測架設等，皆有完整的解決方案。

膜厚量測範圍	800nm ~ 250μm
波長量測範圍	220nm ~ 1600nm

TOP平面顯示器膜厚量測裝置 FE series可對應各世代的樣品尺寸

應用範圍
LCD	ITO/Glass,PI/OC/Glass,CF/Glass,Resist/Glass
TFT	SiN/a-Si/Glass
有機OLED	有機OLED/ITO/Glass
PDP	鐵導層/Glass

半導體用膜厚量測裝置 FE series∮300mm晶圓膜量測的全自動搬送裝置

應用範圍
Si半導體晶圓膜	SiO2/Si,Resist/Si,SiO2/a-Si,SiO2/SiN/SiO2

TOP製程生產線膜厚量測系統:MCPD series（可配合各式傳輸裝置及生產線）各式薄膜生產線、遠距離量測、多點同時量測
(1) 顯微鏡量測端 (2) X-Y軸量測平台【顯微鏡量測架構】
以絕對反射率達到高的微小口徑膜厚解析。
(1) 分光光譜儀主機
(2) 受光光纖
(3) Y型分歧式光纖
(4) 量測用光源
(5) 橫式移動軸
(6) 光纖固定組件