四平太阳能超纯水设备,四平电路板超纯水设备
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四平电路板超纯水设备

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四平太阳能超纯水设备,四平电路板超纯水设备,四平高纯水制取设备
一.电子行业(特别是微电子行业)纯水需求量大,其特点是水质要求较高.

主要应用于:
 
1.   大规模集成电路元器件的生产用水,一般电阻率均大于18MO-CM。按国家有关用水标准(GB/T11446.1-1997)执行。

2.  电子元件厂,在焊接和组装过程中的冲洗用水。依据电子元件生产工艺不同,其用水标准中(即GB/T11446.1-1997)有可为四级(电导率18MO-CM以上,二级电阻率不低于15MO-CM,3级电阻率12MO-CM, 4级为0.5MO-CM).

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二.制水工艺:
    
1(双级反参透)加ED1(电脱盐),核子级混床以及除TOC及紫外线出水指标一般均达到18MO-CM以上。

2.反参透(1级或2级反参透)加ED1(电脱盐),此工艺的优点是操作简单,无需树脂再生工艺,且出水指标一般均达到15MO-CM以上。

电镀涂装行业中,为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力,电镀液的配制需要用电导率在15us/cm以下的纯水,另外在镀件漂洗时也需用电导率在10us/cm以下纯水来清洗,电镀行业水处理系统包括电镀前电镀液配制需要的纯水处理系统、电镀漂洗废水中稀有金属回收漂洗水循环利用废水零排放系统。通常系统由超滤装置,反渗透装置,离子交换装置,EDI装置等组合而成,以满足电镀行业对水质的要求。出水水质更好、更高!

序号 流量(L/h 电压(V/DC 电流(A /DC
1 100~150 30 3.0
2 500~600 40 3.5
3 1000~1100 50 3.5
4 2000~2100 60 3.5
5 3000~3100 80 3.5
6 4000~4100 100 3.5
7 5000~5100 120 3.5

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技术特征:
※制取电子级超纯水
※可连续自动生产,不必停机再生
※出水水质优于常规离子交换法
※不需酸碱再生,不污染环境
※运行成本低,占地面积小

进水水质要求:
※铁离子: < 0.01mg/L
※游离氯: < 0.5mg/L
※硬度: < 1.0mg/L
※活性SiO2: < 0.5mg/L
※总有机碳: < 0.5mg/L
※PH: 5.0-9.0

性能指标:
※出水电阻率: 10-18MΩ.cm
※SiO2: <10 ppb
※Na+: <10 ppb
※脱盐率: >99.5%
※单台产水量: 1-450 m3/h

应用范围:
※电力、石化及冶金行业的水处理除盐
※电子行业超纯水的制取
※医药行业超纯水的制取

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