真空气氛炉的技术要求

发布时间:2024-12-27 11:05

  真空气氛炉的技术要求主要包括以下几个方面:

  1.温度控制精度和均匀性

  真空气氛炉的温度控制精度通常为±℃,炉温均匀性为±℃。此外,有些型号的温度控制精度可以达到℃。

  2.真空度和气氛控制

  真空气氛炉的极限真空度可达Pa(空炉、常温)。气氛控制方面,可以通过进气孔和出气口调节气体种类和流量,支持多种气体如氧气、氮气、氩气、氢气、一氧化碳等,并具备进气预热功能和精确的流量控制。

  3.安全性和冷却结构

  电炉设有电接点压力开关,防止电炉有过高正压和高温停电的情况。炉体采用双层结构,配备风冷和水冷系统,确保长期使用下炉体温度接近室温,小于0度。

  4.材质和设计

  炉体采用数控机床加工,经过抛光、打磨、酸洗、磷化、喷涂塑粉和高温烘烤等工艺,具备抗氧化、耐酸碱、耐腐蚀、耐高温和容易清理等特点。此外,炉门设计为轴向80度侧开,可60度旋转,避免高温取料时烤到手臂。

  5.应用领域

  真空气氛炉广泛应用于金属材料加工、陶瓷与玻璃制造、粉末冶金、化学合成和电子材料生产等领域。通过精确控制炉内的气氛和温度,真空气氛炉能够实现金属材料的快速熔化、精确成分控制以及均匀热处理;在陶瓷和玻璃制造中,避免高温下的氧化和污染,确保产品的纯净度和光学性能;在粉末冶金中,实现粉末冶金产品的快速烧结和致密化;在化学合成和电子材料生产中,提供高度洁净且气氛可控的工作环境。

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