光刻机美国 实验室小型光刻机

使用新型的172nm 的波长。不需要传统的光刻胶，对几乎任何的有机聚合物材料都可以光刻。不需要传统的涂胶、烘烤、曝光、显影、清洗等的流程和时间。高分辨率、高强度、高效率、低成本。在实验室就可以实现光刻，而无需到半导体工厂，使用大型和昂贵的刻蚀机。操作简单，几乎无需培训。
特点：
1 新一代真空紫外(VUV)光源波长：170nm
2 输出强度高: 7.2eV/光子
3 高光输出均匀性： 3%
4 灯寿命长: 曝光可达30,000次
5 不要超净间、无需复杂昂贵的光学平台
6 操作简单、快速
7 体机小巧
目标实验室：大学、科研院所，进行芯片、传感器、电路研究的如下实验室
1 半导体材料和工艺研究
2物理：微机电、纳米、存储、芯片研究、传感器
3 化学：材料研究，刻蚀、光刻、清洗
4 光电
5 材料科学
6生物：微流控，生物芯片
7医学：微流控，生物/医学芯片

光刻机美国实验室小型光刻机

1. 172纳米 全新加工原理

传统1 72 nm光源的低输出功率阻碍了该波长在研究和生产中的广泛应用。 π2 -CYGNI克服了这一障碍，并揭示了1 72nm的真正能力-全新化学驱动方法，反应方式和加工技术。 

紫外线不仅仅用于光刻和固化！

全新能量驱动方式

紫外线弧光灯可提供较高的平均功率。 准分子紫外线源提供高光子通量。 π2 -CYGNI提供高平均功率和高光子通量- 无需主动或外部冷却。 

高功率和高光子通量的这种独特组合包装在便携的封装内，并引发了其他光源无法实现的大面积反应和过程。

全新技术灯具

每个π2 -CYGNI的是一个超薄（<4毫米）平面微腔放电灯。 与传统的弧光放电灯相比，广域发射提供了卓越的均匀性，同时消除了对复杂的聚光，准直和均化光学器件的需求。

紫外线无泄漏

在π2 -CYGNI之前，产生紫外线通常意味着产生有毒物质，低转换效率和高设备成本。 π2 -CYGNI通过提供一种环保且节能的解决方案打破了这些障碍。 π2 

-CYGNI的制造和使用过程中不使用有毒材料，在生产过程中使用π- CYGNI可以减少化学材料和水的消耗。 有效的降低了使用成本，即成本仅是使用其他1 72 nm光源成本的一小部分。

 光刻机美国实验室小型光刻机

输出强度   > 10 mW/cm2

强度均匀性   < 3%

峰值输出波长  172 nm

-3dB宽度(FWHM)    8.9 nm

发光面积   43 mm x 43 mm

预热时间（从0到95％）  < 2 s

直流输入电压  12 V

电源输入电压  110-220 V / 50-60 Hz

氮气/氩气流速*     0.5-1 SCFM

寿命   > 5000 hours

功耗   < 25 W

传输环境：                          氮气，氩气，UV级熔融石英，高真空

π2-Cygni 系统参数

π-Cygni消除了对特定光刻胶化学物质的需求

由于光具有高能量（每个光子7 .2eV），现在几乎可以将任有机聚合物用作光刻胶！π2-CYGNI的1 

72nm可实现更高分辨率的成像，使用简单且廉价的光刻胶可以消除传统基于DNQ的光刻胶系统产生的碱废物。

新型，新的可能性

重新定位传统的光刻胶。 由于曝光机制的性质，不再需要光敏剂。 简而言之，π2-CYGNI分解有机聚合物链，直到它们挥发和蒸发。 

此过程是通用的-几乎所有有机聚合物现在都可以用作光刻胶，即使是固体形式也是如

此。

干/正/负处理-由您决定！

由于有机膜质量减少，在曝光期间产生图像，因此消除了对单独显影步骤的需要。 

由此产生的高对比度足以用于其他过程，从而减少了处理时间并减少了废物的生。为了满足更苛刻的应用，可以在曝光后对有机聚合物进行进一步处理以提高分辨率。 但是，与传统光刻胶不 

同，色调（正或负）由显影液而不是敏化剂决定。 除了减少质量和蒸发外，由于链长减少，在曝光过程中聚合物中也会发生交联。 

无与伦比的单曝光分辨率

较短的波长  较高的分辨率。 与I  线光刻相比，π2-

CYGNI具有将分辨率提高50%的潜力。