国内、最理想的遮瑕膏生产设备-CIK可倾真空均质乳化机

发布时间:2017/3/28 16:40:00

 遮瑕膏可视作为粉底的一种。不同之处在于遮瑕膏比普通粉底具有更佳的遮盖力,且更贴合肌肤,持久不易脱妆。每个人的脸上都会有这样那样的瑕疵,例如:黑眼圈、色斑、痘疤局部性的斑点、痘痘、微血管等等,运用遮瑕膏能完美的解决这些问题,还能让你的肤色迅速变得均匀、细致,还能持久地为彩妆加分,令你自信,无惧迎向最挑剔的眼光,质地越丰润的遮瑕膏,遮瑕效果越出众。

针对这类基质粘度大,且固料含量比较高的膏类产品,切可(上海)机械设备有限公司引进国内外先进科技开发出CK-ME可倾真空均质乳化机,本机组由预处理锅、真空乳化搅拌锅、真空泵、液压系统、电气控制系统,工作平台等部分组成,本机组操作简便、性能稳定、均质性能号、生产率高、清洗方便、结构合理、占地面积少、自动程度化高等特点。

 

设备优点:

1、采用上部同轴三重搅拌器,液压升降开盖;

2、搅拌器转速都是变频调控,快速均质搅拌器转速为0-3500r/min,慢速刮壁搅拌器转速为0-63r/min,均质器采用高剪切涡流式乳化搅拌机,慢速刮壁自动紧贴锅底及锅壁。

3、真空吸料,特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。

4、整个工序在真空条件下进行,防止物料在高速搅拌后产生气泡,能达到卫生无菌要求;

5、本系统配有CIP信息系统,容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造、内表面镜抛光300EMSH;

6、为了提高设备的品质,真空泵及电器控制部分采用德国纳西姆公司产品,变频器采用日本松下电工;

7、本机组完全符合GMP要求制造,是国内,最理想的膏类生产设备。

 


 

 

主要技术参数:

型号

有效容量

乳化马达

搅拌马达

外形尺寸

总功率

KW

r/min

KW

r/min

全高

电加热

蒸汽加热

CK-ME-20

20

0.75

0-3000

0.37

0-40

1800

1600

1850

2700

9

3

CK-ME-50

50

2.2

0-3000

0.37

0-40

2700

2000

2015

2700

25

5

CK-ME-100

100

3

0-3000

1.5

0-40

2920

2120

2200

3000

27

9

CK-ME-150

150

3

0-3000

1.5

0-40

3110

2120

2200

3100

27

9

CK-ME-200

200

4

0-3000

1.5

0-40

3150

2200

2200

3100

40

12

CK-ME-350

350

4

0-3000

2.2

0-40

3650

2650

2550

3600

50

16

CK-ME-500

500

5.5

0-3000

2.5

0-40

3970

2800

2700

3950

50

16

CK-ME-1000

1000

11

0-3000

4

0-40

3900

3400

3150

4550

100

30

CK-ME-2000

2000

15

0-3000

7.5

0-40

4850

4300

3600

不带升降

120

50

 

售前与售后服务:

1.所有由我公司提供的设备,我们将负责安装调试验收至产品合格、设备正常验收,进入生产;

 

2.亲自上门提供正常的设备操作培训,为需方培训多名工程技术人员,全面掌握生产工艺、设备日常维护、故障及生产管理;

 

3.所提供设备培训均保修一年(在保修期内除需方因操作不当造成的原因外,所有因设备维修所发生的维修费用均由我公司负责 )

 

4.我公司在接到维修后,无特殊情况,本市最多十小时,全国最多四十八小时到达现场;

 

5.终身维护,在保质期外,如有设备故障,我公司可派人来服务,维修零配件和其他不高于市场价格;

 

6.我公司将长期为顾客提供的制造工艺、技术革新、市场动态等同类行业的情报信息;

 

7.购买设备前我们将提供咨询支持,也欢迎前来参观我们的工厂。