IBE350干法刻蚀设备，该刻蚀设备在半导体行业中占据着至关重要的地位，可以实现纳米级的精密刻蚀。对复杂微结构的器件加工，微电子器件的制造提供重要支持，在芯片领域发挥着关键作用。

1. 设备尺寸：1200*1500*1800mm。

2. 极限真空：优于≤8.0×10-5Pa。

3. 样品尺寸：6英寸向下兼容。

4. 刻蚀类型：物理刻蚀。

5. 刻蚀气体：Ar、O2。

6. 刻蚀气体流量：0~100sccm。

7. 离子源类型：考夫曼直流离子源，角度可调。

    成都超迈光电科技有限公司，为国家高新技术企业、国家标准拟定单位、创新型中小企业、省专精特新企业、新经济双百企业，已通过GB/T与GJB双体系认证。

       公司致力于真空镀膜、等离子刻蚀、人工晶体材料和特殊装备的技术提升，具有全系列涂层服务装备和检测手段，已申请国家专利60余项，授权专利与软件著作权50余项，拟定国家标准2项，行业标准1项，为中国物理学会固体缺陷专家委员单位，全国电热装备标准化委员会单位，已形成工业级、科研级和特殊级三大产品系列，公司在南充高新区(顺庆高新区)建有超迈智能产业园，一期已完成3.5万平方米厂房和配套办公生活设施建设，具备强大的研发和制造能力。