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粉底研磨分散机 粉底研磨胶体磨 BB霜CC霜防晒霜高速研磨 依肯高速分散胶体磨 依肯纳米高速胶体磨 德国进口高速胶体磨,高剪切管线式胶体磨 卫生级胶体磨
粒径是评价粉体的一个重要指标,可以分为原始颗粒、聚集体、团聚体三个级别。粉碎设备在降低粉体团聚、改善粉体性能方面具有关键作用。对于着色剂,一般粒径越细,分散越完全,表观色和涂抹色差异性越小。通过物理分散,可以有效降低团聚体比例,优化粉体的粒径分布,从而提高产品的稳定性和使用效果。珠光颜料是具有多层包覆结构,基底层通常为云母或者二氧化硅,为片晶状结构,表面较为光滑,包覆层为二氧化钛、氧化铁或其他着色剂。
CM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。CM2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
国内胶体磨和上海依肯胶体磨的全面对比:
IKN 上海依肯 | 沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅 | 斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大 | 可以通过变频调速,转速可达7890/13789RPM ,通过皮带加速 我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍,研磨的力度也是他们的3-4倍,这样研磨的细度更小) | 23-40 M/S | 可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块 | 双机械密封,易于清洗, 极不易漏 ,可24小时不停运转 | 可实现1-10微米小粒径材料加工 |
由上可知,好的胶体磨和差的胶体磨差距还是很大的,当然在选择设备时候根据具体的要求选择合适设备,IKN高剪切胶体磨相对国产胶体磨而言,研磨效果、设备稳定性上面优势巨大,但是设备成本也比较高,一分价钱、一分货。对于设备而言更多是考虑整体的性价比,不能单独看设备价格,也要看能耗、维护成本、生产效率等。
IKN粉底液高速卫生级胶体磨
IKN粉底液高速卫生级胶体磨选型表:
型号 | 流量 | 输出转速 | 线速度 | 马达功率 | 出/入口链接 |
L/H | rpm | m/s | kw | ||
CM2000/4 | 700 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM2000/5 | 3000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM2000/10 | 8000 | 4200 | 23 | 1.5 | DN50/DN50 |
CM2000/20 | 20000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM2000/30 | 40000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM2000/50 | 80000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和***终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
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380
4kw
粉体浆料
<100 mm
10 um
450*350*750 mm
0-9000