冻胶分散体连续在线高速胶体磨
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冻胶分散体是采用一定的交联技术和分散技术,地面形成特定本体冻胶后,再用设备进行机械剪切、物理磨圆作用后,制得不同粒径分布、不同强度的、适应不同油藏条件的均一分散.




注水开发是我国油田开采的主要方式,但油田的长期注水开发导致地层的非均质性加 剧,使油田开发中后期含水上升速度加快,水驱低效或无效循环。调剖(调驱)技术是目 前改善地层非均质性,实现油田稳产增产的有效手段。实现对水流通道的封堵,改善注水井的吸水剖面, 扩大水驱波及体积,从而提高水驱效果,达到提高原油采收率的目的。目前,调剖(调驱) 技术在实施过程中,多采用现场配制调剖(调驱)剂,在注水井口将调剖(调驱)剂直接 泵入注水井的方式


 

根据一些行业的te殊要求, IKN 在CM2000系列胶体磨的基础上又开发了一款CMS2000X速胶体磨,转子的线速度可以da到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒径分布更小。

       chaoX速胶体磨的细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 

       CMS2000的线速度很高,剪切间隙fei常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

     三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。此款X速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度da到3bei以上,X大的转速可以da到14000RPM。所以可以da到更好的分散湿磨效果。


chaoX速胶体磨应用领域:食品工业:芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、乳制品,麦乳精、香精、各种饮料等。 化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛bai粉,二氧化钛,炭黑,硬脂酸盐,硬脂酸钙 有机氟材料等。 日用化工:牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、化妆品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。 医药工业:各型糖浆、营养液、、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、、各种药膏、各种口服液、针剂、注射液,混悬注射液,脂肪乳,静滴液,乳化猪皮,头孢类 等。 建筑工业:各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料,纳米涂料等。 其它工业:塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业环保的生产需要 。胶体磨磨头CM2000胶体磨
胶体磨磨头

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无jun级 电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、 电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ 电机选配件: PTC 热保护、降噪型 chaoX速胶体磨材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti chaoX速胶体磨选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车 chaoX速胶体磨表面处理:抛光、nai磨处理 进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍 胶体磨选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

X速胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW



700

14000

40

4

DN25/DN15

CMS 2000/5

4,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMS 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMS 2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMS 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMS 2000/50

100,000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。






1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度,稠度和#终产品的要求。

 



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