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透明氧化硅液体在线纳米研磨分散机
一种高透明度的混合材料,可以提高树脂的硬度和耐摩擦力,而且不影响外观。
形成原因
氧化硅透明液体XZ-GY25,是无色透明的液体,固含量25/,是通过一系列的物理化学工艺加工生产而成的,将纳米的二氧化硅加工成纳米氧化硅透明液体,**的提高纳米氧化硅的应用范围,纳米氧化硅透明液体XZ-GY25,可以制作成透明的氧化硅玻璃薄膜涂层材,可以和各种水性树脂混合,如丙烯酸树脂,PU树脂,环氧树脂,三聚氰胺树脂等树脂混合,透明度高,可以提高树脂的硬度和耐摩擦力,而且不影响外观,树脂中添加XZ-GY25后,树脂的强度和亮度都明显增强。纳米二氧化硅透明液体XZ-GY25具有优良的粘结性、成膜性、活性、大比表面积及无毒、无味等性能,广泛应用于电子、催化剂、耐火材料,涂料、油墨、纺织、食品等行业。
性能
1外观:透明液体;2纳米氧化硅的含量:25/;3 ph值:8-10;密度:1.2g/cmˇ3;4粘度:7厘泊;粒径:10nm。
CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第*级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000研磨机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10
研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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