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活性氢氧化镁在线高速研磨分散机
是指通过特殊的工艺对氢氧化镁微粒表面进行活化处理,以使其能够很好的与各种塑料橡胶相容,发挥出其优异的阻燃性能。
氢氧化镁是现代应用的*广泛的水合金属氧化物阻燃剂,另外一种是氢氧化铝。之所以氢氧化镁能够得到广泛应用是因为这种水合金属氧化物不产生二次污染,热稳定性能很好,并且同其他阻燃剂的协同效果好,无毒,无腐蚀,不挥发,不产生毒气,价格低廉,来源广泛。已经被人们誉为无公害阻燃剂。同时,氢氧化镁也是集阻燃、抑烟、填充三大功能为一体的阻燃剂。氢氧化镁阻燃剂的阻燃机理在于氢氧化镁的分解温度为340℃到490℃;分解后发生脱水反应,可以吸收材料表面的热量,当材料表面的热量被大量吸收后便可降低材料燃烧的表面温度,从而达到阻燃的效果。氢氧化镁在脱水后产生的大量水蒸气可以有效的稀释可燃气体浓度,降低可燃气体的助燃效果。氢氧化镁分解而产生的残余物氧化镁是致密的氧化物,它可以沉积于塑料表面,**可燃气体的产生,起到隔热、隔绝氧气的作用,并且达到抑烟的效果。氢氧化镁还可以促进塑料表面炭化,隔绝氧气与塑料接触。以上时氢氧化镁作为阻燃剂的各项优势,但是在实际应用中,氢氧化镁作为阻燃剂又有其缺点,比如,氢氧化镁耐酸性能力差;在制品中要添加大量氢氧化镁才能达到很好的阻燃作用,这样便使得制品其他方面如力学性能、电学性能降低;并且氢氧化镁与塑料的相容性变差;还容易产生滴落现象;提高加工难度。因此,人们为了解决这些问题而在实际中应用到氢氧化镁优异的阻燃效果,便出现了对氢氧化镁进行表面处理的理论和工艺(也叫做对氢氧化镁进行改性处理、或者是对氢氧化镁进行活化处理),这样就使得氢氧化镁在工业中得到了广泛的应用。
上海IKN技术,独特创意,融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了**分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
CMD2000系列是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。
CMD2000研磨机为立式分体结构,**的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到低,保证机器连续24小时不停机运行。
CMD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。
**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第*级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
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