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碳纳米管是继 C60之后发现的碳的又一同素异形体,其径向尺寸较小,管的外径一般在几纳米到几十纳米,管的内径更小,有的只有 1nm 左右;而其长度一般在微米级,长度和直径比非常大,可达 103~106。因此,碳纳米管被认为是一种典型的一维纳米材料。碳纳米管自从被人类发现以来,就一直被誉为未来的材料,是近年来国际科学的前沿领域之一。美国加州 Berkeley 大学 Alex Zettl 教授认为,就应用前景对 C60和碳纳米管进行**的比较,C60可以用一页纸概括,而碳纳米管需要一本书来完成。
碳纳米管尤其是单壁碳纳米管,因其独特的结构和优异性能,在众多领域有广泛应用前景,但其应用效果往往依赖于良好的分散状态。碳纳米管表面惰性,且存在范德华力及 π-π 吸引等相互作用,易团聚形成管束或聚团,团聚会掩盖其优异性能,如在复合材料中,团聚的碳纳米管不能有效发挥增强作用,限制材料整体性能提升。而分散后,碳纳米管能更好地与基体材料接触和相互作用,在电子器件中,均匀分散的单壁碳纳米管可形成高效导电网络,提升器件导电性和性能稳定性;在储能材料中,良好的分散可增加活性位点与电解质接触,提高电化学反应效率,增强储能性能。此外,均匀分散的碳纳米管能在基体中形成良好的应力传递路径,显著提高复合材料的力学性能,如强度、韧性和模量等。
碳纳米管的分散要点在于实现分散的同时避免打断管体。实验室常用的超声波分散方式难以满足工业化大规模应用的需求,而传统的搅拌与研磨方法不仅效率低下,而且对缓解碳纳米管团聚的效果甚微。高能球磨虽能打散团聚体,却会将较长的碳纳米管打断,从而显著降低材料的性能。相比之下,依肯机械凭借其独特的设计,在高速分散碳纳米管的过程中,能够有效保持其长度,*大程度地减少分散过程对材料的破坏,同时,该机械还具备良好的适应性,可适用于不同黏度的分散介质,展现出在碳纳米管分散领域的显著优势。
依肯机械合作的客户众多,其中成都某单位和沈阳某大学尤为突出,这两家单位在单壁碳管/碳纳米管分散领域处于业内龙头地位。
上海IKN技术,独特创意,融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良,在原来CM2000系列的基础上,将单一的胶体磨磨头模块,改良成两级模块,加入了**分散盘(均质盘、乳化盘)。从而形成改良型的胶体磨,先研磨后分散(均质、乳化),将物料的处理一步到底的完成,我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
CMD2000系列是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。
CMD2000研磨机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10
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制造商
全新
德国
380
4kw
粉体浆料
<100 mm
10 um
450*350*750 mm
0-14000