膜厚测试仪XU-100性能特点：

1）搭载微聚焦加强型X射线发生器和先进的光路转换聚焦系统，测量面积达0.03mm2

2）拥有无损变焦检测技术，手动变焦功能，可对各种异形凹槽件进行无损检测，凹槽深度范围0-30mm

3）核心EFP算法，可对多层多元素，包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数据分析（钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精准检测外层Ni和第三层Ni的厚度）

4）配备高精密微型移动滑轨，可实现多点位、多样品的精准位移和同时检测

5）可同时分析23个镀层，24种元素，测量元素范围：氯Cl（17）- 铀U（92），涂镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92），涂镀层检出限：0.005μm

6）人性化封闭软件，自动判断故障提示校正及操作步骤，避免误操作

7）标配φ0.2mm准直器，测量面积可达0.03mm2

8）配有微光聚集技术，最近测距光斑扩散度10%

膜厚测试仪XU-100软件优势：

1. 清晰化操作界面布局

        简约的布局设计，可令操作员快速的掌握软件基本操作。

2. 便捷化程式选择

        增加了日常镀层程序快捷键设计按钮，无需进入程序库挑选，便可快速检测，提升工作效率。

3. 高清可视化窗口

        可以清晰直观的观测到被检测样品的状态，通过独有的变焦调节旋钮，达到用户最

理想的观测效果。

4. 多通道数字谱图界面

        清晰化呈现被检样品的元素谱图，配合先进的解谱技术，精准计算出结果。

5. 仪器状态实时监测数据汇总

        可一目了然的观测到仪器运行状况，有任何异常，系统都将提醒，大大降低操作失误。

膜厚测试仪XU-100在钕铁硼镀镍镀铜镀镍（Ni/Cu/Ni/NdFeB）的测试：

钕铁硼磁铁具有优异的磁性能，被广泛应用于电子、电力机械、医疗器械、玩具、包装、五金机械、航天航空等领域。

钕铁硼磁铁的常见的电镀方式为镀镍镀铜再镀镍，由于该类镀层方式中同一元素Ni镀层分布在不同的层级，加上X射线荧光检测的是元素的荧光能量，对于分布在不同层的同一元素，普通仪器不能具体区分荧光来自具体的哪一层。