多异氰酸酯高转速实验室在线研磨分散机
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多异氰酸酯高转速实验室在线研磨分散机 


多异氰酸酯

制造聚氨酯胶黏剂用的多异氰酸酯有二异氰酸酯、三异氰酸酯以及它们的改性体,其中*常见的是二异氰酸酯。多异氰酸酯中甲苯二异氰酸酯采用价格低廉的甲苯与苯为原料,因此发展很快,占**地位。多异氰酸酯分子中含有两个或两个以上的活性部位,因此在发生聚合反应时,可向二端或三向延伸成线型或交联(体型)聚合物。工业上制备多异氰酸酯是通过伯胺与光气反应来实现的。多异氰酸酯中,***即是TDI、MDl和PAPI三种。TDI有2,4-TDI和2,6-TDI,二者互为异构体,常用的TDI为它们的混合物。TDI具有活性大、价格便宜等优点,但挥发性、刺激性和毒性都比较大。低温下甲基对位上的异氰酸酯基比邻位上的活泼得多。MDI常温下为固体,两个异氰酸酯基的活性相同,刺激性小,以它为原料制备的臃黏剂有较高的粘接强度和冲击韧性,常用它作密封胶黏剂的瘵料一Pap,是三官能度的,可以制**联密度较高的聚氨酯胶黏剂,常与氯丁橡胶配合,制成应用广泛的氧丁-列克纳胶黏剂。

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CMD2000研磨机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10

 

研磨分散机的特点:

 

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

 

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

 

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

IKN研磨分散机设备参数:

 

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、

电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

电机选配件: PTC 热保护、降噪型

研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷

研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理

进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍

研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

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