煅烧法制备氧化镁实验室研磨分散机
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煅烧法制备氧化镁实验室研磨分散机 


氧化镁(Magnesium oxide),是一种无机化合物,化学式为MgO,是镁的氧化物,是一种离子化合物,常温下为白色固体。氧化镁以方镁石形式存在于自然界中,是冶镁的原料。氧化镁有高度耐火绝缘性能。经1000℃以上高温灼烧可转变为晶体,升至1500 - 2000°C则成死烧氧化镁(镁砂)或烧结氧化镁。

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性质

氧化镁是碱性氧化物,具有碱性氧化物的通性,属于胶凝材料。呈白色或灰白色粉末,无臭、无味、无毒,是典型的碱土金属氧化物,化学式MgO。熔点为2852℃,沸点为3600℃,密度为3.58g/cm3(25℃)。溶于酸和铵盐溶液,不溶于酒精。在水中溶解度为0.00062 g/100 mL (0 °C)、0.0086 g/100 mL (30 °C)。暴露在空气中,容易吸收水分和二氧化碳而逐渐成为碱式碳酸镁,轻质品较重质品更快,与水结合在一定条件下生成氢氧化镁,呈微碱性反应,饱和水溶液的pH为10.3。溶于酸和铵盐难溶于水,其溶液呈碱性。不溶于乙醇。在可见和近紫外光范围内有强折射性。菱镁矿(MgCO3)、白云石(MgCO3·CaCO3)和海水是生产氧化镁的主要原料。热分解菱镁矿或白云石得氧化镁。用消石灰处理海水得氢氧化镁沉淀,灼烧氢氧化镁得氧化镁。也可用海水综合利用中得到的氯化镁卤块或提溴后的卤水为原料,加氢氧化钠或碳酸钠等生成氢氧化镁或碱式碳酸镁沉淀,再灼烧得氧化镁。中国主要采用以菱镁矿、白云石、卤水或卤块为原料


CMD2000研磨机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10

 

研磨分散机的特点:

 

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

 

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

 

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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