合成硬脂酸镁高速纳米研磨分散机
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合成硬脂酸镁高速纳米研磨分散机 


硬脂酸镁,化学式为C36H70MgO4,分子量为591.24,是一种有机化合物,为白色无砂性的细粉,与皮肤接触有滑腻感。在水、乙醇或乙醚中不溶,主要用作润滑剂、抗粘剂、助流剂。特别适宜油类、浸膏类药物的制粒,制成的颗粒具有很好的流动性和可压性。在直接压片中用作助流剂。还可作为助滤剂、澄清剂和滴泡剂,以及液体制剂的助悬剂、增稠剂。

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应用领域

1.该品用作聚氯乙烯热稳定剂,以及化妆品年面粉、润肤油膏和医药片剂原料(赋形药、润滑药);用于校木粉中使之润滑光亮透明;油漆工业作透明平光剂等。

2.广泛用于食品、医药、涂料、塑料、橡胶、纺织等。

3.是新型药用辅料,可作固体制剂的成膜包衣材料、胶体液体制剂的增稠剂、混悬剂等。

4.化妆品中用于粉类产品,可增进黏附性,润滑性,还可作为医药片剂原料。


CMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10

 

研磨分散机的特点:

 

1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

 

2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

 

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

 

4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

 

5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

IKN研磨分散机设备参数:

 

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、

电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

电机选配件: PTC 热保护、降噪型

研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷

研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理

进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍

研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

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