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IKN氢氧化钾实验室在线研磨分散机
氢氧化钾,是一种无机化合物,化学式为KOH,是常见的无机碱,具有强碱性,0.1mol/L溶液的pH为13.5,溶于水、乙醇,微溶于乙醚,*易吸收空气中水分而潮解,吸收二氧化碳而成碳酸钾,主要用作生产钾盐的原料,也可用于电镀、印染等。
外观:白色结晶性粉末
溶解性:溶于水、乙醇,微溶于乙醚
应用领域
1、用于电镀、雕刻、石印术等。
2、用作钾盐生产的原料,如高锰酸钾、碳酸钾等。
3、在医药工业中,用于生产钾硼氢、安体舒通、沙肝醇、丙酸睾丸素、黄体酮、香兰素等。
4、在轻工业中用于生产钾肥皂、碱性蓄电池、化妆品(如冷霜、雪花膏和洗发膏)。
5、在染料工业中,用于生产还原染料,如还原蓝RSN等。
6、用作分析试剂、皂化试剂、二氧化碳和水分的吸收剂。
7、在纺织工业中,用于印染、漂白和丝光,并大量用作制造人造纤维、聚酯纤维的主要原料,也用于用于制造三聚氰胺染料。
8、还用于冶金加热剂和皮革脱脂等方面。
CMD2000研磨机有一定输送能力,对高固含量有一定粘稠度物料,CM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10
研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
IKN研磨分散机设备参数:
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
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