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干法制备硅酸钠实验室研磨分散机
理化性能
硅酸钠的模数越大,固体硅酸钠越难溶于水,n为1时常温水即能溶解,n加大时需热水才能溶解, n大于3时需4个大气压以上的蒸汽才能溶解。硅酸钠模数越大,Si含量越多,硅酸钠粘度**,易于分解硬化,粘结力**,而且不同模数的硅酸钠聚合程度不同,从而导致其水解产物中对生产应用有着重要影响的硅酸组分也有重大差异,因此不同模数的硅酸钠有着不同的用处。
干法:(1)碳酸钠法:根据所需产品的模数要求,将纯碱(Na2CO3) 和粒径0.180~0.250 mm(60~80目)的石英砂 (SiO2)按比例混合均匀送入马蹄焰窑炉,在 1450~1500 ℃下熔融,高温熔融产物从窑炉出料口流出,通过模子上面的辊子压制成块或者水淬成颗粒。(2)元明粉(又称硫酸钠、无水芒硝)法:原料包括硫酸钠(无水芒硝)、碳粉、石英砂,生产过程和碳酸钠法相同,不同的是炉内采用负压操作,在窑后抽风。(3)氯化钠法:以氯化钠(NaCl)和石英砂为原料,将石英砂和氯化钠混合均匀并熔融,通入蒸汽,反应得到硅酸钠和盐酸。此法反应速度较慢,一般工厂均不采用。
研磨分散机的特点:
1、 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
IKN研磨分散机设备参数:
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10
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