玻璃抛光粉高速研磨分散机，设备厂家

玻璃抛光粉配比浓度低，使用量少， 在低浓度下能达到**的抛光效果（只是同比产品的2/10-5/10左右）; 抛光速度快，无划伤， 无光道 ；本产品氧化铈含量高， 粒度细， 分布合理， 比表面积大， 使用寿命长· 适用于各种不同材质的抛光；抛光过程中， 附着力强， 易清洗， 悬浮性好（可添加3-5/LBD-1分散剂提高悬浮率）, 不易沉降·；PH值呈中性， 不污染环境， 无异味， 不怕潮， 可长期存放不变质。

详细介绍

成份构成及用途

用 途：适合各种工艺玻璃、不锈钢制品抛光。

性 状：粉体产品。

工艺条件：抛光机抛光

腐 蚀 性：此产品呈中性，对产品无腐蚀。

毒 性：无毒，不污染环境。

配 比：建议抛光粉浓度在使用机械抛时5-20g/升, 手工抛时浓度可适度加大

温 度：常温

上海IKN技术，独特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了**分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。

CMD2000研磨机为立式分体结构，**的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。

CMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

第*级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

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