简介：

Lumina AT2-EFEM可以在2分钟内完成300毫米晶圆的缺陷扫描，对于基底上下表面的颗粒、凸起、凹陷、划痕、内含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半导体如氮化镓、砷化镓、碳化硅等样品上有独特的优势。也可用于薄膜涂层的成像厚度变化的全表面扫描。

样品300 x 300 mm。

厂商简介

Lumina Instruments，总部位于美国加利福尼亚州圣何塞，公司创始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷检测创新了更快速准确的方法，因此创建了革命性的仪器品牌lumina.

技术创新

将样片放入AT2-EFEM系统中，2~3分钟即可完成扫描。

收集的数据将被分析，图像和缺陷图将由LuminaSoft软件生成。
感兴趣的缺陷可在扫描电子显微镜（SEM）、椭偏仪、显微镜等上进行进一步分析。

将样品放入系统

直径为30微米的绿色激光以50毫米的直线运动，反射光和散射光由四个探测器捕获。

四通道检测

Lumina AT2-EFEM:采取的样品尺寸为300mm；光斑的大小在60μm也可以选择30或10μm；灵敏度在300nm为理想；扫描时间在40/50/120s。

AT2应用：

l 内部缺陷：在融化阶段，玻璃内含有污染物

l 内应力：生产过程中玻璃内部形成的张力或折射率内部变化。

l 污渍：由于薄膜残留或清洗过程导致表面变色。

AT2

系统规格

扫描时间:2分钟内扫描300mm晶圆

扫描范围: 450x450mm

灵敏度: 薄膜缺陷<0.5

颗粒，硅上200nm PSL

颗粒，玻璃上300nm PSL

标刻: 金刚石标刻 200$

翘曲度: 范围可达800μm

+/-5μm重复性

温度: 18-30摄氏度

电压: 120/230VAC

电流: 8A/4A

重量: 480Kg (1058磅)

尺寸: 1037 x 1037 x2005mm  (40.8 x 40.8x79英寸)